TaNb Sputtering Target טוהר גבוה סרט דק Pvd ציפוי בהתאמה אישית
טנטלום ניוביום
טנטלום ניוביום תיאור מטרה
מטרת הקזת טנטלום ניוביום מיוצרת באמצעות התכה בוואקום של טנטלום וניוביום.שני אלה הם נקודת התכה גבוהה (טנטלום 2996 ℃, ניוביום 2468 ℃), נקודת רתיחה גבוהה (טנטלום 5427 ℃, ניוביום 5127 ℃) מתכות נדירות.לסגסוגת טנטלום ניוביום יש מראה דומה לפלדה, יש לה ברק אפור-כסף (בעוד שהאבקה אפור כהה).יש לו תכונות חיוביות רבות: עמידות בפני קורוזיה, מוליכות-על וחוזק בטמפרטורה גבוהה.אז כל יישומים או תעשיות יכולים להפיק תועלת משימוש בסגסוגות טנטלום ניוביום, כגון אלקטרוניקה, זכוכית ואופטיקה, תעופה וחלל, מכשור רפואי, מוליכות-על ופלדה.
טנטלום וניוביום היו מכריעים בתעשיית החלל במשך שנים בשל חוזקם המרשים, עמידותם בפני קורוזיה ותכונות אטרקטיביות אחרות, והם שימשו ברכיבים חשובים רבים כמו מנועי רקטות וחירים.
אריזת מטרת קפיצת ניוביום טנטלום
מטרת ה-TaNb לקפיצה שלנו מתויגת באופן ברור ומתויג חיצונית כדי להבטיח זיהוי יעיל ובקרת איכות.זהירות רבה ננקטת כדי למנוע כל נזק שעלול להיגרם במהלך אחסון או הובלה.
קבל צור קשר
מטרות הקזת טנטלום ניוביום של RSM הן בעלות טוהר גבוה במיוחד ואחידות.הם זמינים בצורות שונות, טהרות, גדלים ומחירים.אנו מתמחים בייצור חומרי ציפוי סרט דק בטוהר גבוה עם ביצועים מצוינים כמו גם בצפיפות הגבוהה ביותר האפשרית ובגדלי גרגרים ממוצעים קטנים ככל האפשר לשימוש בציפוי עובש、קישוט、חלקי רכב、זכוכית נמוכה E、מעגל משולב מוליכים למחצה、סרט דק התנגדות、תצוגה גרפית、חלל、 הקלטה מגנטית、מסך מגע、סוללה סולארית סרט דק ויישומים אחרים של שקיעת אדים פיזית (PVD).אנא שלח לנו שאילתה לגבי תמחור נוכחי של מטרות קיצוץ וחומרי שיקוע אחרים שאינם רשומים.
