מטרה לקרטעת סיליקון

חלק מהלקוחות שאלו על מטרות לקריסת סיליקון.כעת, עמיתים ממחלקת הטכנולוגיה של RSM ינתחו עבורכם מטרות לקריסת סיליקון.

מטרה לקרטעת סיליקון נעשית על ידי קיבוע מתכת ממטיל סיליקון.ניתן לייצר את המטרה בתהליכים ובשיטות שונות, לרבות ציפוי אלקטרוניקה, קיצוץ ותקיעת אדים.התגלמויות מועדפות מספקות עוד תהליכי ניקוי ותחריט נוספים כדי להשיג תנאי פני שטח רצויים.המטרה המופקת היא מאוד רפלקטיבית, עם חספוס של פחות מ-500 אנגסטרם ומהירות שריפה מהירה יחסית.לסרט שהוכן על ידי יעד הסיליקון יש מספר חלקיקים נמוך.

מטרת קרז סיליקון משמשת להנחת סרטים דקים על חומרים מבוססי סיליקון.הם משמשים בדרך כלל ביישומי תצוגה, מוליכים למחצה, אופטי, תקשורת אופטית וציפוי זכוכית.הם מתאימים גם לחריטת רכיבי היי-טק.ניתן להשתמש במטרות לקרטעת סיליקון מסוג N למטרות שונות.זה ישים לתחומים רבים, כולל אלקטרוניקה, תאים סולאריים, מוליכים למחצה ותצוגות.

מטרת הקזת הסיליקון היא אביזר קיצוץ המשמש להנחת חומרים על פני השטח.בדרך כלל, הוא מורכב מאטומי סיליקון.תהליך הקפיצה דורש כמות מדויקת של חומר, מה שעשוי להיות אתגר גדול.שימוש בציוד קיצוץ אידיאלי הוא הדרך היחידה לייצר רכיבים מבוססי סיליקון.ראוי לציין כי מטרת הקזת הסיליקון אינה משמשת בתהליך הקיזוז.