סיכויי פיתוח של יעד נחושת בטוהר גבוה

נכון לעכשיו, כמעט כל יעדי הנחושת המתכתיים הטוהר-אולטרה-גבוהים הנדרשים על ידי תעשיית ה-IC נמצאים במונופול על ידי מספר חברות רב-לאומיות גדולות זרות.יש לייבא את כל יעדי הנחושת האולטרה-טהורה הדרושים לתעשיית ה-IC המקומית, וזה לא רק יקר, אלא גם מסובך בהליכי יבוא. לכן, סין צריכה בדחיפות לשפר את הפיתוח והאימות של יעדי התזת נחושת בטוהר גבוה במיוחד (6N). .הבה נסתכל על נקודות המפתח והקשיים בפיתוח של מטרות קיטור נחושת בטוהר גבוה במיוחד (6N).

1、פיתוח חומרים בטוהר גבוה במיוחד

טכנולוגיית הטיהור של מתכות Cu, Al ו-Ta בעלות טוהר גבוה בסין רחוקה מזו שבמדינות מפותחות תעשייתיות.נכון להיום, רוב המתכות בטוהר הגבוהות שניתן לספק אינן יכולות לעמוד בדרישות האיכות של מעגלים משולבים לקפיצת מטרות על פי שיטות ניתוח כל האלמנטים המקובלות בתעשייה.מספר ההכללות ביעד גבוה מדי או מופץ בצורה לא אחידה.חלקיקים נוצרים לעתים קרובות על הרקיק במהלך הקפיצה, וכתוצאה מכך קצר חשמלי או מעגל פתוח של חיבורים, אשר משפיע באופן רציני על ביצועי הסרט.

2、פיתוח טכנולוגיית הכנת יעדים לקפיצת נחושת

הפיתוח של טכנולוגיית הכנת יעדים לקפיצת נחושת מתמקדת בעיקר בשלושה היבטים: גודל גרגר, בקרת התמצאות ואחידות.לתעשיית המוליכים למחצה יש את הדרישות הגבוהות ביותר לקפיצת מטרות ואידוי חומרי גלם.יש לו דרישות קפדניות מאוד לבקרת גודל גרגיר פני השטח וכיוון הגביש של המטרה.יש לשלוט בגודל הגרגיר של המטרה ב-100μ M להלן, לפיכך, השליטה בגודל הגרגר והאמצעים לניתוח וגילוי מתאם חשובים מאוד לפיתוח מטרות מתכת.

3、פיתוח ניתוח ובדיקה טֶכנוֹלוֹגִיָה

הטוהר הגבוה של המטרה פירושו הפחתת זיהומים.בעבר, נעשה שימוש בספקטרומטריית ספיגה אינדוקטיבית (ICP) וספיגה אטומית לקביעת זיהומים, אך בשנים האחרונות נעשה שימוש הדרגתי בניתוח איכות פריקת זוהר (GDMS) עם רגישות גבוהה יותר כסטנדרט. שיטה.שיטת יחס ההתנגדות השיורית RRR משמשת בעיקר לקביעת טוהר החשמל.עקרון הקביעה שלו הוא להעריך את טוהר המתכת הבסיסית על ידי מדידת מידת הפיזור האלקטרוני של זיהומים.מכיוון שזה למדוד את ההתנגדות בטמפרטורת החדר ובטמפרטורה נמוכה מאוד, זה פשוט לקחת את המספר.בשנים האחרונות, על מנת לחקור את מהות המתכות, המחקר על טוהר גבוה במיוחד פעיל מאוד.במקרה זה, ערך RRR הוא הדרך הטובה ביותר להעריך את הטוהר.