CrSi סגסוגת מקרטעת יעד טוהר גבוה סרט דק Pvd ציפוי בהתאמה אישית

הייצור של מטרות לקיעת סיליקון כרוניום כולל את השלבים הבאים:
1. התכת ואקום של סיליקון וכרוניום להשגת סגסוגות צעד.
2. טחינת אבקה, אריזה ופינוי.
3. טיפול לחיצה איזוסטטית חמה כדי לקבל מוצרים מוגמרים למחצה.
4. עיבוד חומר מטרה גס של סגסוגת כרום-סיליקון כדי להשיג את חומר היעד של סגסוגת כרום-סיליקון.

CrSi משמש לעתים קרובות כחומר הסרט התנגדות גבוהה, הוא כולל את ההתנגדות הגבוהה, היציבות ומקדם הטמפרטורה הנמוך של התנגדות.כרוניום וסיליקון יכולים לייצר שלבי סיליקיד רבים כמו Cr3Si, Cr5Si3, , CrSi, CrSi2.תהליך הייצור, ההרכב ותהליך הטיפול בחום של סרט CrSi משפיעים מאוד על הביצועים שלו.

Rich Special Materials מתמחה בייצור של תרסיס מטרה ויכולה לייצר חומרי ריזור כרוניום סיליקון לפי מפרט הלקוחות.למידע נוסף, אנא צור איתנו קשר.