AlCu Sputtering Target טוהר גבוה סרט דק PVD ציפוי בהתאמה אישית

מטרת התזת אלומיניום נחושת מושלמת למספר תעשיות ויישומים, בשל הקשיות הגבוהה, חוזק המתיחה ומשקלו הקל.יש לו בדרך כלל 1-3% תכולת נחושת ויש לו תכונות כימיות דומות לאלומיניום.ל-AlCu תכונות מכניות גבוהות, יכולת עיבוד מצוינת והתאמה לטמפרטורה גבוהה, כך שהוא יכול להיות החומר המתאים לסגסוגת אלומיניום בעלת ביצועים גבוהים.ניתן להשתמש במטרת קפיצת סגסוגת AlCu בטוהר גבוה במגוון רחב של תחומים תעשייתיים, החל מרכיבים פונקציונליים מוליכים למחצה ורכיבים אלקטרוניים.

Rich Special Materials מתמחה בייצור של תרסיס מטרה ויכולה לייצר חומרי ריסוס אלומיניום כרום לפי מפרט הלקוחות.המוצרים שלנו כוללים תכונות מכניות מצוינות, מבנה הומוגני, משטח מלוטש ללא הפרדה, נקבוביות או סדקים.למידע נוסף, אנא צור איתנו קשר.